China avanza en la fabricación de chips de 5 nm, pero enfrenta un obstáculo crítico de rendimiento

La empresa china SMIC, el mayor fabricante de semiconductores del país, está a punto de lograr la producción masiva de chips de 5 nanómetros, una meta tecnológica clave en medio de las tensiones globales por la soberanía tecnológica. Tras años de trabajo y sin acceso a las herramientas de litografía más avanzadas del mercado debido a sanciones internacionales, SMIC ha perfeccionado su proceso mediante tecnología de litografía ultravioleta profunda (UVP), y se espera que inicie la producción próximamente.

Sin embargo, el mayor reto que enfrenta la compañía es el bajo rendimiento por oblea, es decir, la proporción de chips funcionales obtenidos en cada ciclo de producción. Según la experta en semiconductores Kim, investigadora en TSMC y con experiencia en Samsung, el rendimiento actual del nodo de 5 nm de SMIC está por debajo del 30%, una cifra muy baja frente al umbral mínimo de rentabilidad que ronda el 70%. Esto implica que la mayoría de los chips producidos no serían comercialmente viables.

El uso de la técnica multiple patterning, que consiste en grabar los patrones del chip en varias pasadas para compensar la falta de tecnología de litografía ultravioleta extrema (UVE), explica en gran parte este pobre rendimiento. Esta técnica ha permitido a SMIC fabricar chips de 7 nm desde hace más de un año, pero su aplicación a los 5 nm conlleva una complejidad y margen de error mucho mayores. La falta de acceso a maquinaria avanzada de empresas como ASML, debido a sanciones impuestas por EE. UU. y Países Bajos, limita seriamente las posibilidades de mejora inmediata.

El futuro de la competitividad china en la industria de semiconductores depende ahora del desarrollo autónomo de su propia tecnología de litografía UVE, un proceso aún en etapas iniciales. Mientras tanto, los chips de 5 nm que SMIC logre producir serán escasos y costosos, dificultando su adopción a gran escala. A pesar del avance técnico, el país aún enfrenta una barrera crítica para igualar el nivel de producción eficiente alcanzado por gigantes como TSMC o Samsung.

Vía: Xataka

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